Технології МЕ. Хімічне осадження з газової фази

Автор - Кірєєв В., Столяров A.

Проведено класифікацію процесів і устаткування хімічного осадження з газової фази (ХОГФ), що використовуються в технології виробництва інтегральних мікросхем (ІМС), і показано тенденції їхнього розвитку. Наведено основні характеристики елементів мікроструктур ІМС, одержуваних у процесах ХОГФ, а також технологічні характеристики самих процесів і використовуваних реагентів. Розглянуто параметри обладнання для реалізації процесів ХОГФ і проведено аналіз його можливостей, переваг і недоліків при осадженні Функціональних шарів мікросхем. Наведено основні електрофізичні характеристики осаджуваних плівок. Для інженерів-технологів і науковців, які використовують у своїй практичній роботі хімічне осадження плівок з газової фази. Книга може бути корисною також студентам старших курсів, аспірантам і викладачам вузів. Для інженерів і студентів радіотехнічних та інших суміжних спеціальностей.